metal gate 好處
2007年12月24日—high-k/metalgate技術預計可在2009-2010年達到32nm世代的量產化,如圖一所示,藉此技術的增進得以降低元件的驅動電流並抑制漏電流,使32nm以下大型積體 ...,2007年7月31日—...金屬閘極(MetalGate),Intel於2003年提出以金屬閘極取代複晶矽以改善電極...
淺談先進電晶體:新一輪晶片製程中,誰勝出?有何發展趨勢?
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2022年1月21日—...metalgate),介電層的k值愈大,氧化層電容(Cox)愈大,電晶體電流愈大...隨著傳統的半導體尺寸微縮,電晶體的閘極長度(gatelength)也逐漸減小。
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